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ASMLのEUV露光装置、中国流出疑惑に米国が懸念を表明
ポキのり
-
2026年6月19日
米政府がASMLの最先端EUV露光装置が中国に流出した可能性を指摘し、ASMLはこれを否定。半導体製造の鍵を握るASMLと米中間の輸出規制を巡る地政学的緊張を解説します。
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